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光伏投影扫描光刻系统 HJT-lithography systems

技术特点

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  • 针对异质结电池片铜栅线工艺的图形化需要 ,专门设计了一款投影扫描光刻系统 ,拥有急剧光刻、分辨率好、大焦深的特点 ,选取405nm光纤激光光源 ,极度适合在光伏专用感光油墨上进行曝光 ,实现高品质的槽型结构。配置了CCD鉴别基片纠偏系统 ,实现30μm对准精度。
  • 该投影扫描光刻模式 ,选取较低成本的通常掩模版作为图形输入 ,且拥有曝光均匀性与一致性好、工艺窗口大、对基片厚度误差适应性高、便于与前后路设备组线的利益 ,是光伏图形化的梦想解决规划。

 

规格参数

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* 具体指标因工艺差距有所分歧

 

选取抛光基片 ,负光刻胶的光刻了局

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选取光伏镀铜基片 ,感光油墨的光刻了局

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