半导体CD（Critical Dimension）和OVL（Overlay）丈量设备是芯片造作过程中不成或缺的工具。CD丈量设备用于精确丈量半导体晶圆上微幼特点的尺寸，确保它们切合设计规格。这对于维持芯片机能和良率至关沉要。OVL丈量设备则用于评估分歧造作步骤中图案层之间的对准精度，保障各层图案可能精确沉合，从而预防电路职能失效。通过高精度的丈量，半导体CD和OVL设备援手工程师实时发现和解决出产中的问题，确保最终产品的质量和机能。
维普Vortex系列机台，选取UV光学成像及反射、透射照明光源。搭配高精度的边缘探测算法，可实现亚像素级丈量精度。同时兼容Mask及晶圆的CD量测。
Vortex 2000
Vortex 2000是维普推出针对晶圆半自动光学关键尺寸及套刻丈量设备，基于高分辨率的光学成像系统，支持透射、反射两种照明模式，可兼容Mask/Wafer的关键尺寸量测。搭配高机能的活动台，提高丈量过程中定位效能，削减稳态抖动，以满足丈量沉复性的刻薄要求。
利用场景
针对4、6、8、12寸晶圆、光罩Mask关键尺寸及套刻精度丈量。
关键个性
- 可同时兼容最大12寸晶圆及Mask的CD量测
- 支持UV、白光照明及光学系统
- 支持透射光（用于Mask）、反射光量测
- 光学系统基于Recipe的自动丈量
- 支持灰度阈值、灰度变动率、直线拟合等多种线宽丈量步骤
- 多持非线性赔偿职能
- 支持低对比度下的线宽丈量
- 支持通过GDS文件进行急剧定位的丈量
- 提供摇杆、专用节造键盘进行平台定位以及常用职能的快捷操作
